Китай начал серийный выпуск установок для производства 7-нм чипов
В Китае стартовало серийное производство передового литографического оборудования, способного выпускать микросхемы по техпроцессу до 7 нанометров. Об этом сообщает издание The Information.
По данным источника, первые экземпляры этих установок иммерсионной литографии планируют поставить крупным китайским производителям полупроводников уже в 2026 году. Это событие знаменует собой важный шаг в развитии местной микроэлектронной промышленности.
Разработка и массовое производство такого сложного оборудования позволит Китаю существенно снизить зависимость от иностранных технологий и поставщиков в сфере производства чипов. Технологический процесс в 7 нанометров — это высокий уровень, который используется для создания современных процессоров для смартфонов, серверов и другой высокотехнологичной электроники.
Источник: vc.ru · Rusability ИИ
Комментарии (0)
Без регистрации. Комментарии проверяются автоматически перед публикацией.
Пока нет комментариев. Будьте первым!